隨著電子顯微技術(shù)的不斷進步,如何高效、精確地制備高質(zhì)量的薄片已成為材料科學和納米技術(shù)領(lǐng)域的重要議題。作為一種常用的薄片制備方法,聚焦離子束(FIB)技術(shù)雖被廣泛應用,但在使用過程中會涉及到高能離子及 Ga 的使用,這可能引入不必要的離子注入。為了克服這一局限性,寬離子束(BIB)技術(shù)逐漸受到關(guān)注,并展現(xiàn)出其在降低損傷、提高樣品質(zhì)量方面的優(yōu)勢。
為了更好地理解和應用 BIB 技術(shù),我們誠摯邀請您參加本次專題研討會。
Part.1.會議詳情
會議時間
2025 年 10 月 17 日(周五)10:00-12:00
參與方式
線上參會
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